Réflectomètre Multi sites/In-Situ - F30 - Système clé en main pour couches minces et semi-conducteurs

Caractéristiques principales :

• Améliore considérablement la productivité
• Meilleur rapport qualité/prix
• Rapide et précis
• Facile à utiliser
• Système clé en main

L'outil le plus puissant disponible pour surveiller le dépôt de couches minces :
Mesurez les taux de dépôt, l'épaisseur du film, les constantes optiques (n et k) et l'uniformité des semi-conducteurs et des couches diélectriques en temps réel avec le système de réflectance spectrale F30.

Exemple de couches :

• MBE et MOCVD : Des films lisses et translucides, ou légèrement absorbants, peuvent être mesurés. Cela inclut pratiquement tous les matériaux semi-conducteurs, de l'AIGaN au GaInAsP.

Applications :

• MBE
• MOCVD
• Matériaux
• Recherche
• Dureté
• Filtres
• Revêtement antireflet

Parfaitement adapté à la métrologie en production :

• Usages multiples : Le F30 regroupe plusieurs instruments : il s’agit d’un outil d’étalonnage pré-dépôt permettant d’ajuster une recette de traitement avant le dépôt réel, d’un moniteur en temps réel du processus de dépôt en couche mince, d’un capteur de défauts et d’un instrument d’évaluation post-dépôt de la structure multicouche complétée.

Mesure de dépôt :
Pour les couches en croissance, le F30 surveille en permanence la réflectance de l'échantillon à une ou plusieurs longueurs d'onde. Les propriétés optiques de la couche déposée produisent des oscillations de brouillage uniques dépendantes du temps dans le signal de réflectivité. L'analyse "d'interface virtuelle" de ces oscillations permet de déterminer facilement le taux de dépôt de la couche et les constantes optiques avec une précision de 1 %. Les couches sous-jacentes étant automatiquement comptabilisées, aucune connaissance du dépôt précédent n'est requise.
La mesure simultanée du taux de dépôt à deux endroits ou plus révèle l'uniformité de l'échantillon. Le F30 fournit également un moyen efficace de détecter la rugosité de la surface associée aux transitions eutectiques utilisées pour l’étalonnage en température.

Mesure des couches statiques :
Pour les couches statiques (inchangées), le F30 mesure le spectre de réflectance de l'échantillon, puis analyse ces données avec des routines de simulation puissantes pour déterminer l'épaisseur de la couche et ses constantes optiques. Toute couche dans une pile de quatre couches au maximum peut être mesurée de cette manière.

Un système qui répond à vos besoins, y compris les applications multi-wafer :
Le F30 comprend tout le nécessaire pour les mesures in situ : spectromètre, source de lumière, câble à fibres optiques et lentilles. Des montures d'objectif spéciales sont disponibles pour les applications à accès restreint, comme c'est souvent le cas dans le MOCVD. Une simple option de correction multi-wafer / wobble est également disponible - aucune pièce ou matériel de synchronisation compliqué n'est requis.

Interface Windows TM intuitive :
Après une brève opération de configuration, la plupart des mesures ne nécessitent que quelques opérations à la souris. Les utilisateurs novices peuvent être formés en quelques minutes. Les données mesurées, ainsi que leurs détails, sont facilement sauvegardées et exportées.