Nettoyeur plasma in-situ pour gaz agressifs et corrosifs - Saphir SEMI-KLEEN avec tube en saphir résistant

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Description

Nettoyeur plasma in-situ Saphir SEMI-KLEEN
Source de plasma in-situ pour les gaz agressifs et corrosifs.
Le nettoyeur plasma in-situ SEMI-KLEEN Saphir est une mise à niveau par rapport au nettoyeur plasma SEMI-KLEEN standard pour prendre en charge les gaz de processus agressifs et corrosifs. La chambre à plasma a été remplacée par un tube en saphir plus résistant chimiquement. La conception du joint à vide et la sélection du matériau de la chambre ont été optimisées pour supporter les processus corrosifs à l'intérieur du plasma.
Pour les applications où la gravure au plasma d'hydrogène de la chambre à quartz est un problème, le Saphir SEMI-KLEEN est un meilleur choix par rapport à la source de plasma d'hydrogène à chambre à quartz traditionnelle.
Applications :
  • Dépôt de films minces
  • Nettoyage de la surface des échantillons avant le dépôt de couches minces dans les systèmes de dépôt de couche atomique
  • Nettoyage des contaminations au carbone et à l'oxygène de la surface métallique

Exemple d'utilisation :
La source de plasma à distance SEMI-KLEEN Saphir a été utilisée pour des projets menés au NIST. Les résultats des utilisateurs montrent que la source de plasma SEMI-KLEEN peut nettoyer les contaminants de carbone et d'oxygène de l'échantillon InGaAs avec seulement 2 secondes de plasma d'hydrogène.
Caractéristiques :
  • Source de plasma d'hydrogène très efficace
  • Capacité de décharge à basse pression nécessaire pour éviter la recombinaison de l'hydrogène atomique

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