Petit nettoyeur plasma intelligent et puissant in-situ - pour systèmes SEM, FIB, XPS, SIMS, AES - EM-KLEEN

Nettoyeurs plasma in-situ - Séries Semi-Kleen & EM-KLEEN
Solution de nettoyage plasma douce pour le contrôle de la contamination dans les systèmes à vide poussé, tels que SEM, FIB, AES, XPS, ALD, EUVL, etc.
Caractéristiques principales :
Les nettoyeurs plasma in-situ des séries SEMI-KLEEN et EM-KLEEN utilisent la technologie de décharge à plasma à couplage inductif (ICP) à haut rendement, développée au Lawrence Berkeley National Laboratory. La technologie Turbo Discharge™ en instance de brevet améliore la force du plasma jusqu'à 3 fois par rapport à la technologie ICP traditionnelle.
Le nettoyeur plasma EM-KLEEN offre une solution abordable pour la suppression des contaminations dans les systèmes SEM, FIB et XPS. La source plasma à distance SEMI-KLEEN est adaptée aux exigences de l'industrie des semi-conducteurs. Le nettoyeur SEMI-KLEEN peut éliminer les particules à l'échelle nanométrique, une fonctionnalité essentielle pour les équipements de semi-conducteurs. L'option d'adaptation automatique d'impédance est spécifique au modèle SEMI-KLEEN.
Le nettoyeur plasma SEMI-KLEEN peut inclure un tube saphir pour des gaz de process agressifs tels que H2, NF3, CF4 et NH3. Des designs personnalisés sont disponibles pour répondre aux besoins spécifiques d'application comme la gravure ou le dépôt sur systèmes ALD.
Nettoyeur plasma in-situ EM-KLEEN
Petit nettoyeur plasma intelligent et puissant pour systèmes SEM, FIB, XPS, SIMS, AES.
Le nettoyeur plasma à distance EM-KLEEN nettoie efficacement les échantillons et les chambres à vide des microscopes électroniques et autres instruments d'analyse (SEM, FIB, TEM, XPS, SIMS). Il élimine les contaminations d'hydrocarbures et de fluorocarbones, améliore le niveau de vide ultime et réduit le temps de pompage. Il peut également éliminer les contaminations organiques sur les surfaces avant imagerie et analyse.
Le système comprend un contrôleur LCD tactile avec micro-ordinateur intégré et une source plasma distante. La source plasma s'installe sur la chambre à vide. Les ports standards incluent NW/KF40, avec des adaptateurs disponibles pour d'autres interfaces SEM et des options de bride CF2.75".
EM-KLEEN est une source plasma entièrement automatique. Il intègre un capteur de pression Pirani, un régulateur automatique de débit de gaz, un capteur d'intensité plasma, un capteur de température et un ventilateur de refroidissement. Ces éléments permettent un nettoyage haute vitesse à haute puissance tout en évitant la surchauffe.
Technologies intégrées :

• Capteur de pression miniature pour surveiller en continu la pression et déclencher des sécurités.
• Contrôleur de débit pour maintenir une pression spécifiée.
• Capteur de force plasma mesurant en temps réel.
• Ventilateur de refroidissement pour éviter la surchauffe.
• Technologie SmartCleanâ„¢ combinant recherche nucléaire et semi-conducteurs.

Liste des fonctionnalités :

• Technologie de décharge plasma basse pression issue du Lawrence Berkeley National Laboratory.
• Allumage plasma instantané à très basse pression.
• Contrôle électronique du débit de gaz avec rétroaction du capteur de pression.
• Moniteur de force plasma pour optimiser les recettes.
• Puissance RF de 75 watts à 13,56 MHz.
• Interface utilisateur tactile intuitive et contrôle PC à distance via RS232/RS485.
• Modes de fonctionnement sécurisé et expert avec messages personnalisables.
• Fonction SmartSchedule personnalisable.
• Support de 60 méthodes personnalisables.
• Refroidissement actif pour un nettoyage haute puissance.
• Protection contre la surchauffe.
• Design portable pour une utilisation sur différents systèmes.