Accusizer 780 aps (double dilution & automatisme)
Description
La présence de quelques familles de particules de tailles différentes des populations principales peut influencer de façon significative la performance des slurries, encres, peintures ou bien la stabilité des émulsions. La qualité et l’activité de solutions pharmaceutiques basées sur des émulsions ayant une population de particules de diamètre moyen 300nm peuvent être influencées par des particules supérieures à 5µm avec un diamètre moyen supérieur à 10 fois.
. Gamme :0.5-400µm/1-1000µm/5-2500 µm (suivant le choix de détecteurs)
• Compteur de pulsation rapide 512 canaux – Débit recommandé : 60ml/mn
• Visualisation en temps réel de la distribution des tailles de particules
• Technologie SPOS (Obstruction lumière simple particule)
• Voie humide en milieu aqueux ou organique
• Haute sensibilité (recommande par USP-729)
• Détermine les particules de taille différente à la moyenne de la taille principale de la distribution («Outliers»).
• Incorpore deux étages de dilution breveté (rapide et fiable) avec des facteurs de 10 à 144.000 en temps réel de façon à traiter les échantillons qui changent avec le temps ou qui varie en fonction des lots de fabrication.
• Possibilité de couplage avec le module DLS «Diffraction Light Scattering»
• Logiciel 21CFR Part 11 (Option)
Domaine d'utilisation:
Slurries de polissage CMP’sLes particules surdimensionnées ou agglomérées (1 micron) peuvent faire des dégâts sur les surfaces polies des semi-conducteurs en créant des micro-rayuresEncres & Peintures: Contrôle des particules en taille et concentrationEtude de la stabilité des émulsions en chimie et pharmacie
. Gamme :0.5-400µm/1-1000µm/5-2500 µm (suivant le choix de détecteurs)
• Compteur de pulsation rapide 512 canaux – Débit recommandé : 60ml/mn
• Visualisation en temps réel de la distribution des tailles de particules
• Technologie SPOS (Obstruction lumière simple particule)
• Voie humide en milieu aqueux ou organique
• Haute sensibilité (recommande par USP-729)
• Détermine les particules de taille différente à la moyenne de la taille principale de la distribution («Outliers»).
• Incorpore deux étages de dilution breveté (rapide et fiable) avec des facteurs de 10 à 144.000 en temps réel de façon à traiter les échantillons qui changent avec le temps ou qui varie en fonction des lots de fabrication.
• Possibilité de couplage avec le module DLS «Diffraction Light Scattering»
• Logiciel 21CFR Part 11 (Option)
Domaine d'utilisation:
Slurries de polissage CMP’sLes particules surdimensionnées ou agglomérées (1 micron) peuvent faire des dégâts sur les surfaces polies des semi-conducteurs en créant des micro-rayuresEncres & Peintures: Contrôle des particules en taille et concentrationEtude de la stabilité des émulsions en chimie et pharmacie
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